Pengaruh Variasi Waktu Ultrasonikasi dan Waktu Tahan Hydrothermal terhadap Struktur dan Konduktivitas Listrik Material Graphene

Muhammad Junaidi, Diah Susanti
Submission Date: 2014-02-06 11:21:57
Accepted Date: 2014-03-16 06:40:02

Abstract


Graphene merupakan satu lapis atom karbon yang mengalami hibridisasi sp2 membentuk struktur heksagonal 2D. Graphene memiliki potensi besar untuk aplikasi nanoelectronic materials. Penelitian ini bertujuan menganalisis waktu ultrasonikasi dan hidrothermal terbaik untuk mensintesis Graphene. Graphene disintesis dengan metode reduksi Grafit Oksida (GO). Grafit dioksidasi membentuk GO dengan modifikasi metode Hummer. GO diultrasonikasi dengan variasi waktu 60, 90 dan 120 menit. Kemudian proses reduksi GO dilakukan secara kimia dengan penambahan serbuk Zn dan teknik hidrothermal 200 oC dengan variasi waktu tahan 12, 18 dan 24 jam. Analisis morfologi dan struktur graphene dilakukan dengan pengujian SEM dan XRD. Pengujian Iodine Number untuk mengetahui kemampuan graphene menyerap Iodin. Pengujian FTIR untuk mengetahui gugus fungsi yang terbentuk  pada GO dan Graphene. Pengujian Four Point Probe Test (FPP) untuk mengukur konduktivitas listrik Graphene. Hasil analsis menunjukkan bahwa graphene hasil ultrasonikasi 120 menit dan Holding 12 jam memiliki struktur Single Layer Graphene (SLG) dengan konduktivitas listrik terbaik 0.0105 S/m

Keywords


Graphene; Konduktivitas Listrik; Metode Hummer; Metode Hydrothermal

Full Text: PDF

CC Licencing


Authors who publish with this journal agree to the following terms:
- Authors retain copyright and grant the journal right of first publication with the work simultaneously licensed under a Creative Commons Attribution License that allows others to share the work with an acknowledgement of the work's authorship and initial publication in this journal.
- Authors are able to enter into separate, additional contractual arrangements for the non-exclusive distribution of the journal's published version of the work (e.g., post it to an institutional repository or publish it in a book), with an acknowledgement of its initial publication in this journal.
- Authors are permitted and encouraged to post their work online (e.g., in institutional repositories or on their website) prior to and during the submission process, as it can lead to productive exchanges, as well as earlier and greater citation of published work (See The Effect of Open Access).

Refbacks

  • There are currently no refbacks.


Creative Commons License
Jurnal Teknik ITS by Lembaga Penelitian dan Pengabdian Kepada Masyarakat, LPPM-ITS is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.
Based on a work at http://ejurnal.its.ac.id/index.php/teknik.
Statistik Pengunjung