Gelatin dalam Elektrolit Gel terhadap Ketebalan dan Kekuatan Lekat Lapisan Krom pada Baja dengan Metode Elektroplating

Kikin Hermanto, Sulistijono Sulistijono
Submission Date: 2015-01-30 13:28:23
Accepted Date: 2015-03-13 08:40:18

Abstract


Elektroplating pada dunia industri banyak dimanfaatkan untuk melakukan pelapisan terhadap benda kerja dengan cara pencelupan benda kerja dalam larutan elektrolit. Cara ini dirasa kurang efektif bila digunakan pada benda kerja yang telah terpasang pada rangkaian kerjanya, sehingga penelitian tentang elektrolit gel ini dilakukan.

Penelitian ini menggunakan metode alternatif elektroplating, yaitu elektrolit gel. Elektrolit gel merupakan metode elektroplating tanpa perlu melakukan pencelupan, penelitian ini bertujuan untuk mengetahui pengaruh konsentrasi H2CrO4 (250 g/l; 300 g/l; 350 g/l) dan gelatin sebagai gelling agent (40,5 g/l; 81 g/l; 121,5 g/l) dalam elektrolit gel H2CrO4 terhadap ketebalan dan kualitas lapisan krom hasil elektroplating pada baja.

Hasil penelitian menunjukkan bahwa semakin besar konsentrasi asam kromat dalam elektrolit gel akan meningkatkan ketebalan deposit krom sedangkan penambahan konsentrasi gelatin akan menurunkan ketebalan deposit krom. Penambahan konsentrasi asam kromat akan menurunkan nilai kelekatan deposit krom pada spesimen, sedangkan penambahan konsentrasi gelatin akan mencapai nilai kelekatan maksimalnya pada konsentrasi 81 g/l dan penambahan konsentrasi gelatin melebihi konsentrasi tersebut akan menyebabkan penurunan nilai kelekatan.


Keywords


Elektrolit Gel; Elektroplating; Gelatin; H2CrO4; Konsentrasi;

Full Text: PDF

CC Licencing


Authors who publish with this journal agree to the following terms:
- Authors retain copyright and grant the journal right of first publication with the work simultaneously licensed under a Creative Commons Attribution License that allows others to share the work with an acknowledgement of the work's authorship and initial publication in this journal.
- Authors are able to enter into separate, additional contractual arrangements for the non-exclusive distribution of the journal's published version of the work (e.g., post it to an institutional repository or publish it in a book), with an acknowledgement of its initial publication in this journal.
- Authors are permitted and encouraged to post their work online (e.g., in institutional repositories or on their website) prior to and during the submission process, as it can lead to productive exchanges, as well as earlier and greater citation of published work (See The Effect of Open Access).

Refbacks

  • There are currently no refbacks.


Creative Commons License
Jurnal Teknik ITS by Direktorat Riset dan Pengabdian Masyarakat (DRPM) ITS is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.
Based on a work at https://ejurnal.its.ac.id/index.php/teknik.
Statistik Pengunjung