Pengaruh Densitas Arus dan Waktu Kontak Efektif Elektrolit Gel Terhadap Ketebalan Dan Kekuatan Lekat Lapisan Krom Pada Baja Dengan Metode Elektroplating
Abstract
Dalam dunia industri, korosi merupakan ancaman yang sering muncul yang dapat menyebabkan terjadinnya kegagalan material. Korosi bukanlah sesuatu yang dapat dicegah, akan tetapi korosi dapat dikendalikan dengan beberapa cara. Pengendalian terhadap korosi merupakan cara yang dilakukan memperlambat timbulnya korosi pada material dan merupakan suatu hal yang vital untuk dilakukan. Dalam penelitian ini digunakan metode elektroplating dengan menggunakan media elektrolit gel dengan penam bahan 5% gelatin pada larutan elektrolit dan menganalisa pengaruh densitas arus (0.3 A/cm2; 0.45 A/cm2; 0.6 A/cm2) dan waktu kontak ( 300s ; 600s; 900s ) dari hasil penelitian didapatkan peningkatan ketebalan dan berat dari lapisan seiring penambahan nilai parameter yang diaplikasikan. Sedangkan pada kualitas kelekatan lapisan tidak memiliki keteraturan pada hasil yang didapatkan akan tetapi kelekatan maksimal pada penelitian ini didapatkan pada 0.6A/cm2 dan 600 s sebesar 23.15 MPa
Keywords
CC Licencing
- Authors retain copyright and grant the journal right of first publication with the work simultaneously licensed under a Creative Commons Attribution License that allows others to share the work with an acknowledgement of the work's authorship and initial publication in this journal.
- Authors are able to enter into separate, additional contractual arrangements for the non-exclusive distribution of the journal's published version of the work (e.g., post it to an institutional repository or publish it in a book), with an acknowledgement of its initial publication in this journal.
- Authors are permitted and encouraged to post their work online (e.g., in institutional repositories or on their website) prior to and during the submission process, as it can lead to productive exchanges, as well as earlier and greater citation of published work (See The Effect of Open Access).
Refbacks
- There are currently no refbacks.
Jurnal Teknik ITS by Direktorat Riset dan Pengabdian Masyarakat (DRPM) ITS is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.
Based on a work at https://ejurnal.its.ac.id/index.php/teknik.
Statistik Pengunjung