Penggunaan Metode DC Magnetron Sputtering dalam Pembuatan Lapisan Tipis Tipe N (AZO) Sebagai Modul Termoelektrik

Elysa Nensy Irawan, Melania S. Muntini, Aldo Mahenda Putra, Tosawat Seetawan, Kunchit Singsoog, Somphorn Thawankaew, Watchara Caho-Moo, Athorn Vora-Ud
Submission Date: 2019-02-04 15:22:10
Accepted Date: 2019-05-31 12:37:16

Abstract


Penelitian mengenai termoelektrik sedang gencar dikembangkan sejak tahun 1990. Pada tahun 2017, mulai dikembangkan termoelektrik yang menggunakan lapisan tipis. Pada penelitian ini, dilakukan fabrikasi termoelektrik lapisan tipis tipe N menggunakan material Zink Oxide (ZnO) di doping dengan Al2O3. Massa ZnO yang diperlukan sebanyak 20.680 gram dan Al2O3 10.079 gram. Proses fabrikasi lapisan tipis dilakukan menggunakan mesin DC Magnetron Sputtering. Tahapan-tahapan dalam melakukan penelitian ini terbagi ke dalam tiga tahapan utama yakni sintesis, fabrikasi (sputtering), dan pengujian. Proses sputtering dilakukan selama 10 menit dan substrat yang digunakan yakni kaca. Pengujian yang dilakukan yakni pengujian ketebalan menggunakan Tolansky Apparatus, pngujian XRD untuk mengetahui fasa yang terbentuk, pengujian ZEM-3 untuk mengetahui resistivitas, Koefisien Seebeck, dan power factor. Berdasarkan pengujian yang dilakukan, diperoleh ketebalan dari lapisan tipis yang terbentuk yakni 74.72 nm. Nilai Koefisien Seebeck dari lapisan tipis yang terbentuk semakin bertambah seiring kenaikan suhu sehingga dapat disimpulkan bahwa material AZO baik digunakan untuk aplikasi termoelektrik pada rentang suhu 200-350 °C.

Keywords


DC Magnetron Sputtering; Koefisien Seebeck; termoelektrik; lapisan tipis

Full Text: PDF

CC Licencing


Authors who publish with this journal agree to the following terms:
- Authors retain copyright and grant the journal right of first publication with the work simultaneously licensed under a Creative Commons Attribution License that allows others to share the work with an acknowledgement of the work's authorship and initial publication in this journal.
- Authors are able to enter into separate, additional contractual arrangements for the non-exclusive distribution of the journal's published version of the work (e.g., post it to an institutional repository or publish it in a book), with an acknowledgement of its initial publication in this journal.
- Authors are permitted and encouraged to post their work online (e.g., in institutional repositories or on their website) prior to and during the submission process, as it can lead to productive exchanges, as well as earlier and greater citation of published work (See The Effect of Open Access).

Refbacks

  • There are currently no refbacks.


Creative Commons License
Jurnal Sains dan Seni ITS by Lembaga Penelitian dan Pengabdian Kepada Masyarakat, LPPM-ITS is licensed under a Creative Commons Attribution-ShareAlike 4.0 International License.
Based on a work at http://ejurnal.its.ac.id/index.php/sains_seni.